金融界2024年6月28日消息，天眼查知识产权信息显示，四方光电股份有限公司取得一项名为“一种抗漂移的双气敏膜气体传感器“，授权公告号CN114384124B，申请日期为2021年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种抗漂移的双气敏膜气体传感器，属于气敏传感器技术领域，包括基底、加热电极及多个气敏单元，所述加热电极及多个所述气敏单元间隔设置在所述基底上，所述气敏单元包括构成至少两个插齿电极的至少三个测量电极和至少两个气敏膜，所述至少三个测量电极间隔设置在所述基底上，至少两个所述气敏膜分别由纯金属氧化物和与改性材料制作而成，至少两个所述气敏膜分别覆盖在所述至少两个插齿电极上。与现有技术相比，本发明提供的抗漂移的双气敏膜气体传感器，结构简单，适用性较好，提高了气体传感器的敏感性和稳定性。

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